اخبار شرکت "قاتل نامرئی" درمان UV: تجزیه و تحلیل مکانیسم و راه حل مهار اکسیژن

"قاتل نامرئی" پخت UV: تحلیل مکانیسم و ​​راه حل مهار اکسیژن

  به عنوان یکی از مهمترین فناوری های تولید سبز در قرن بیست و یکم، فناوری پخت با اشعه ماوراء بنفش (پخت UV) نقش کلیدی در بسیاری از زمینه ها مانند چاپ، الکترونیک، خودرو و درمان پزشکی ایفا می کند. با این حال، مهار اکسیژن مانند یک "قاتل نامرئی" است که به طور جدی عملکرد و گسترش کاربرد فناوری پخت UV را محدود می کند.

  بارزترین تجلی مهار اکسیژن، "چسبندگی" سطح پوشش است: پس از تابش نور UV، داخل پوشش کاملاً پخته شده است، اما سطح آن چسبناک باقی می ماند و اثر پخت مورد انتظار حاصل نمی شود. این پدیده "متناقض" نه تنها بر کیفیت ظاهری محصول تأثیر می گذارد، بلکه احتمالاً باعث ایجاد مشکلات پردازش بعدی، تخریب عملکرد محصول و حتی از بین رفتن کل دسته محصولات می شود.

  از منظر عملکرد محصول، مهار اکسیژن منجر به تعداد زیادی ساختار اکسیداسیون ناپایدار در سطح می شود و باعث ایجاد نقص هایی مانند زرد شدن و سوراخ های ریز می شود که به طور جدی بر عمر مفید و قابلیت اطمینان محصول تأثیر می گذارد. به دلیل ساختار حالت پایه سه گانه منحصر به فرد خود، سرعت واکنش مولکول های اکسیژن با رادیکال های آزاد 4-5 مرتبه بزرگتر از واکنش های پلیمریزاسیون معمولی است که دلیل اصلی پدیده مهار اکسیژن است.

  مطالعات نشان داده اند که از طریق اقدامات جامع مانند محافظت از اتمسفر بی اثر، بهینه سازی فرمول و بهبود فرآیند، می توان مهار اکسیژن را به طور موثر سرکوب کرد و راندمان پخت UV و کیفیت محصول را به طور قابل توجهی بهبود بخشید.

1. مانع فیزیکی: روش موم شناور و روش پوشش.

2. شدت نور: یک راه ساده برای کاهش مهار اکسیژن، افزایش شدت نور است که باعث می شود آغازگر غلظت بالاتری از رادیکال های آزاد تشکیل دهد که به سرعت با اکسیژن محلول ترکیب شده و غلظت آن را کاهش می دهد.

3. منبع نور: فناوری فلاش UV با تابش مداوم می تواند پالس های تابش فرابنفش کوتاه و با شدت بالا تولید کند و در نتیجه غلظت های بسیار بالایی از رادیکال های آزاد ایجاد کند. نور فرابنفش خلاء (مانند 172 و 222 نانومتر) ساطع شده توسط لامپ اگزایمر به دلیل عبور کم نور فرابنفش خلاء، فقط می تواند پوشش های فوق العاده نازک 1-2 میکرومتر را پخت کند. پخت در این باند نیازی به آغازگر نوری ندارد، غلظت رادیکال آزاد آغازگر مربوطه بسیار کم است و ازن قابل توجهی در هنگام انجام واکنش در هوا تولید می شود.